第三方检测中心

第三方检测中心

表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法

基础信息

标准号:GB/T 32495-2016发布日期:2016-02-24实施日期:2017-01-01标准类别:方法中国标准分类号:G04国际标准分类号:71.040.40 归口单位:全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位:全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门:中国科学院

采标情况

本标准等同采用ISO国际标准:ISO 12406:2010。采标中文名称:表面化学分析二次离子质谱硅中砷的深度剖析方法。

起草单位

中国电子科技集团公司第四十六研究所

起草人

马农农陈潇何友琴王东雪

相近标准(计划)

GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法20232769-T-469 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法20240005-T-469 表面化学分析深度剖析中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析GB/T 20176-2006 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度20232366-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 单离子计数飞行时间质谱分析器的强度标线性20240152-T-469 表面化学分析深度剖析AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度的测量方法GB/T 40129-2021 表面化学分析二次离子质谱飞行时间二次离子质谱仪质量标校准