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半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法

基础信息

标准号:GB/T 24578-2024发布日期:2024-07-24实施日期:2025-02-01全部代替标准:GB/T 24578-2015,GB/T 34504-2017标准类别:方法中国标准分类号:H21国际标准分类号:77.040 归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门:国家标准委

起草单位

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起草人

宁永铎孙燕朱晓彤康森潘金平任殿胜丁雄杰刘薇赵丽丽张西刚贺东江李素青靳慧洁孙韫哲张海英何凌沈演凤廖周芳赖辉朋廖家豪

相近标准(计划)

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