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硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

基础信息

标准号:GB/T 25188-2010发布日期:2010-09-26实施日期:2011-08-01标准类别:方法中国标准分类号:G04国际标准分类号:71.040.40 归口单位:全国表面化学分析标准化技术委员会执行单位:全国表面化学分析标准化技术委员会主管部门:中国科学院

起草单位

中国科学院化学研究所中国计量科学研究院

起草人

刘芬王海赵志娟邱丽美赵良仲宋小平

相近标准(计划)

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